载带胶盘的工艺流程

　　载带胶盘是一种常用于存储数据的光学介质，在制作过程中需要经过多个工艺流程，以下是载带胶盘的典型制作工艺流程：

　　1.基片清洁：

　　首先将透明的基片放入清洗机中，清洗去除基片表面各种杂物、油污等，清洁是制作高品质载带胶盘的重要步骤，在此之后必须进行干燥。

　　2.底层反射膜涂布：

　　将经过清洁、干燥的基片送入涂层机中，喷涂特殊组合物制备底层反射膜，反射膜主要起反射光线和控制介质反射率的作用。

　　3.光敏胶涂布：

　　经过底层反射膜的基片送入光刻机，将光刻胶涂布到基片上，光刻胶是介质的核心材料，其含量的多少和质量的高低会直接影响到最终产品的品质。

　　4.光刻：

　　使用特殊光源在光敏胶表面照射出一个“拍摄”，即将图案在光敏胶上呈现出来，此步骤完成后，通过显影、清洗等步骤，将光敏胶中非固定部分清除掉，形成孔洞结构。

　　5.金属化：

　　在光刻制得的孔洞结构表面喷涂金属材料制备一层导电层，此导电层可以对激光发射产生反应。

　　6.中间层涂敷：

　　制成的光敏孔洞结构基片在经过金属化后送入涂层机，再次进行喷涂特殊的成分级混合物形成基片的中间层。

　　7.上层涂布：

　　上层墨盒的墨水可在CD基片上面形成保护层，还可以增强光盘的反射能力。

　　8.固化：

　　将搭建好的基片送到紫外固化炉中，将软化状态的中间层和上层材料固化成一体，最终形成一个具有完整结构的翻盖塑料光学盘，进行包装和出售。